Litografi (Nanometre Süreci) Nedir?
İşlemci üretiminde litografi (veya fotolitografi), bir işlemci çipinin üzerine, milyarlarca mikroskobik transistör ve devrenin desenini oluşturmak için kullanılan son derece hassas bir üretim tekniğidir. Bir fotoğrafçılık işlemine benzetilebilir.
Süreç Nasıl İşler?: 1. Silikon Plaka (Wafer): Süreç, saf silikondan yapılmış, ayna gibi pürüzsüz, disk şeklinde bir plaka olan "wafer" ile başlar. 2. Işığa Duyarlı Kaplama: Bu plakanın üzerine, "photoresist" adı verilen, ışığa duyarlı özel bir kimyasal katman kaplanır. 3. Maske ve Pozlama: Bir "maske" (işlemcinin devre deseninin bir şablonu), plakanın üzerine yerleştirilir. Ardından, plaka, genellikle aşırı ultraviyole (EUV) gibi çok kısa dalga boylu bir ışık kaynağı ile pozlanır. Işık, maskenin açık olan kısımlarından geçerek alttaki photoresist katmanına ulaşır. 4. Geliştirme ve Aşındırma: Işığa maruz kalan (veya kalmayan, tekniğe göre değişir) photoresist katmanları kimyasal olarak çözülür ve temizlenir. Bu, silikon plakanın üzerinde, maskenin deseninin bir kopyasını oluşturur. Ardından, çeşitli kimyasal veya fiziksel "aşındırma" (etching) işlemleriyle, korumasız kalan silikon katmanları oyularak devreler oluşturulur. Bu süreç, farklı katmanlar için defalarca tekrarlanır.
Nanometre (nm) Ne Anlama Gelir?: Litografide "nanometre" (nm) süreci (örneğin, 7nm, 5nm), bir çip üzerindeki en küçük elemanın, genellikle bir transistörün "kapı" uzunluğunun boyutunu ifade eder. Bu rakam ne kadar küçükse, bir çipin üzerine o kadar fazla transistör sığdırılabilir. Daha fazla transistör, genellikle daha yüksek performans ve daha düşük güç tüketimi anlamına gelir. Bu, Moore Yasası'nın devam etmesini sağlayan temel teknolojik ilerlemedir.